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車燈鍍膜等離子清洗機(jī)制造廠家

規(guī)格:型號(Model) CRF-APO-500W-W 電源(Power supply) 220V/AC,50/60Hz 功率(Power) 2set*1000W/25KH

所屬類型:清洗設(shè)備

品牌:CRF

  • 價格:10000
  • 發(fā)布時間:2021/05/05 14:25
  • 數(shù)量:1000000
  • 所在地:廣東 深圳
產(chǎn)品詳情
  • 規(guī)格:型號(Model) CRF-APO-500W-W 電源(Power supply) 220V/AC,50/60Hz 功率(Power) 2set*1000W/25KH
  • 新舊程度:全新
  • 品牌:CRF
  • 用途:

自動On-Line(軸輪式)式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-W

型號(Model)

CRF-APO-500W-W

電源(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

功率(Power)

2set*1000W/25KHz(Option)

處理寬幅(Processing width)

50mm-500mm(Option)

有效處理高度(Processing height)

5-15mm

處理速度(Processing speed)

0-5m/min

傳動方式(Drive mode)

防靜電絕緣滾輪

噴頭數(shù)量(Number)

2(Option)

工作氣體(Gas)

Compressed Air(0.4mpa)

產(chǎn)品特點:配置專門運(yùn)動控制平臺,PLC+觸摸屏控制方式,采用精準(zhǔn)運(yùn)動模組,操作簡便;

可選配噴頭數(shù)量,滿足客戶多元化需求;


配置專門集塵系統(tǒng),保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈;

應(yīng)用范圍:主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。


等離子清洗設(shè)備可根據(jù)污染物的類型采用不同的清洗方法


等離子清洗是通過化學(xué)和物理作用從分子層(一般厚度為3~30nm)中去除污染物,提高工件表面活性的技術(shù)。所去除的污染物可能是有機(jī)物,環(huán)氧樹脂,光刻膠,氧化物,微粒污染物等。電漿處理可以根據(jù)污染物的類型采用不同的清洗方法。
1、灰化表面有機(jī)層
污染物在真空和瞬時高溫下蒸發(fā),被高能離子粉碎,從真空中排出。
UV輻射破壞污染物,等離子處理每秒只能穿透幾納米,所以污染層不厚。指紋也適用。
2、氧化物去除
這一過程包括使用氫氣或氫氣和氬氣的混合物。有時也可以采用兩步法。首先把表面氧化5分鐘,然后用氫氣,氬氣的混合物去除氧化。各種氣體也可同時進(jìn)行處理。
3、焊接
一般情況下,印刷電路板焊接前應(yīng)使用化學(xué)藥劑。這些化學(xué)物質(zhì)必須在焊接后用等離子法去除,否則會導(dǎo)致腐蝕等問題。
等離子清洗設(shè)備的原理是:真空狀態(tài)下,壓強(qiáng)減小,分子間的距離增大,分子間的作用力減小,利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場,將氧氣、氬、氫等技術(shù)氣體沖洗成反應(yīng)活性高、能量大的離子,與有機(jī)污染物和微粒體污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),工作氣流和真空泵去除揮發(fā)性物質(zhì),實現(xiàn)表面清潔活化。它是一種徹底的剝離清洗方法,具有清洗后無廢液、金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)聚合物材料處理良好、整體、局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)清洗的優(yōu)點。



等離子清洗是通過化學(xué)或物理作用對工件表面進(jìn)行處理,實現(xiàn)分子水平的污染物去除(一般厚度為3~30nm),從而提高工件表面活性。被清除的污染物可能為有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對應(yīng)不同的污染物,應(yīng)采用不同的清洗工藝,在這種情況下,等離子處理可以產(chǎn)生以下效果:
1、灰化表面有機(jī)層
污染物在真空和瞬時高溫下的部分蒸發(fā),污染物被高能離子粉碎并被真空帶走。
紫外輻射破壞污染物,由于等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米,所以污染層不應(yīng)該太厚。指紋也適用。
2、氧化物去除
這種處理包括使用氫或氫和氬的混合物。有時也采用兩步流程。步是用氧氣氧化表面5分鐘,第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也可以同時用幾種氣體處理。
3、焊接
通常,印刷電路板應(yīng)在焊接前用化學(xué)藥劑處理。焊接后,這些化學(xué)物質(zhì)必須用等離子體法去除,否則會引起腐蝕和其他問題。
等離子清洗設(shè)備的原理是在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子,然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達(dá)到表面清潔活化的目的。是清洗方法中徹底的剝離式清洗,其優(yōu)勢在于清洗后無廢液,特點是對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地處理,可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。

標(biāo)簽:清洗設(shè)備

真空等離子處理機(jī)廠家銷售CRF 型號(Model) CRF-APO-500W-W 電源(Power supply) 220V/AC,50/60Hz 功率(Power) 2set*1000W/25KH,針對CRF 型號(Model) CRF-APO-500W-W 電源(Power supply) 220V/AC,50/60Hz 功率(Power) 2set*1000W/25KH客戶提供相關(guān)咨詢服務(wù),需要了解CRF 型號(Model) CRF-APO-500W-W 電源(Power supply) 220V/AC,50/60Hz 功率(Power) 2set*1000W/25KH型號尺寸、重量、價格、安裝、維護(hù)等資料請與我們聯(lián)系。

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